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明導(dǎo):基于模型的建議:光刻友好設(shè)計成功的導(dǎo)航

2013年11月27日16:08:29 本網(wǎng)站 我要評論(2)字號:T | T | T
關(guān)鍵字:應(yīng)用 半導(dǎo)體 計算機 

電子設(shè)計自動化技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)廠商 Mentor Graphics近日發(fā)布一份題為《基于模型的建議:光刻友好設(shè)計成功的導(dǎo)航》的研究報告。中文版的報告全文可在 Mentor Graphics 的官方網(wǎng)站閱讀和下載:http://www.mentorg.com.cn/aboutus/view.php?id=225 。

 

報告作者Joe Kwan 是明導(dǎo) Calibre LFD 和 Calibre DFM Services 的產(chǎn)品營銷經(jīng)理。他過去曾在VLSI Technology、 COMPASS Design Automation 以及 Virtual Silicon 就職。Joe 在加州大學(xué)伯克利分校獲得計算機科學(xué)文學(xué)學(xué)士學(xué)位,并在斯坦福大學(xué)獲電氣工程理學(xué)碩士學(xué)位。電郵: joe_kwan@mentor.com .

 

作者Joe Kwan  
作者Joe Kwan

如今對于一些技術(shù)節(jié)點,設(shè)計人員需要在晶圓代工廠流片和驗收之前進行光刻友好設(shè)計(LithoFriendlyDesign) 檢查。由于先進節(jié)點的解析度增進技術(shù)(RET) 限制,即使在符合設(shè)計規(guī)則檢查 (DRC) 的設(shè)計中,我們?nèi)钥吹搅烁嗟闹圃靻栴}[1] [2],。設(shè)計布局中制造特性較差的區(qū)域(即使應(yīng)用了 RET 技術(shù))所謂光刻熱點,只有在設(shè)計驗證流程中修改布局多邊形才能糾正這些熱點。

 

光刻熱點修復(fù)應(yīng)該滿足兩個條件:

首先,修復(fù)不能導(dǎo)致內(nèi)部或者外部違反 DRC(例如,進行修復(fù)不應(yīng)該完全去除多邊形,使其寬度小于較小的 DRC 寬度,合并兩個多邊形或者使他們之間的距離小于較小的 DRC 間隔。)

 

其次,修復(fù)必須符合光刻友好設(shè)計,也就是說不僅要考慮修復(fù)熱點,而且要確保不產(chǎn)生新的熱點。

 

不過,移動布局邊緣來修復(fù)光刻熱點,這些邊緣不一定是直接鄰接熱點。確定移動哪個布局邊緣來修復(fù)光刻熱點的過程相當(dāng)復(fù)雜,因為從設(shè)計布局到印出電路涉及一連串改變原始布局形狀的復(fù)雜非線性步驟(如 RET),原本布局圖型改變及光學(xué)效應(yīng)對布局特征的影響需列入考慮。鑒于修復(fù)光刻熱點所需的布局修正必須由設(shè)計人員進行,他們通常不熟悉這些流片后過程,顯然在修復(fù)過程中,電子設(shè)計自動化 (EDA) 工具需要為設(shè)計人員提供一些幫助。

 

在明導(dǎo),我們稱之為基于模型的建議(MBH)。MBH 可以評估熱點、確定有哪種修復(fù)選擇可以使用、進行模擬來確定這些修復(fù)建議也遵守所需的條件,然后為設(shè)計人員提供適當(dāng)?shù)男迯?fù)建議(圖1)。一次修復(fù)可能包括單邊移動或者多邊移動,一個光刻熱點可能存在不止一種可行的修復(fù)方法。此外,修復(fù)后的設(shè)計驗證可以發(fā)現(xiàn)任何新的違反DRC較小線寬寬度或者間隔的狀況,但是它無法檢測到被刪除或者合并的多邊形,因此 MBH 系統(tǒng)必須將這個知識整合進建議模型所提供的建議里。能夠在一個建議里看到所有可行的修復(fù)選擇,使設(shè)計人員同時擁有糾正熱點所需的信息以及進行較適合其設(shè)計修復(fù)的靈活性。

 

表 1. 使用基于模型的建議進行的光刻熱點分析(改編自“Model Based Hint for Litho Hotspot Fixing Beyond 20nm node,” SPIE 2013) 
表 1. 使用基于模型的建議進行的光刻熱點分析(改編自“Model Based Hint for Litho Hotspot Fixing Beyond 20nm node,” SPIE 2013)

有關(guān) MBH 系統(tǒng)的另一個優(yōu)點是他們可以拓展,通過使用以原始目標(biāo)層作為輸入端的分解層,為使用雙重或者三重圖案微影制造的層中發(fā)現(xiàn)的光刻熱點提供支持建議。這使設(shè)計人員能夠繼續(xù)解決20nm和以下的光刻熱點。事實上,我們已經(jīng)有許多客戶在多個設(shè)計中使用光刻模擬和 MBH 流片20nm芯片,從而消除光刻熱點。

 

當(dāng)然,不言而喻,任何生成這些建議的軟件解決方案還需要準(zhǔn)確和快速。

 

由于設(shè)計人員必須承擔(dān)越來越多的責(zé)任來確保設(shè)計可以通過日益復(fù)雜的生產(chǎn)流程進行制造,EDA 軟件必須不斷發(fā)展來填補這一知識差距。具有基于模型的建議能力的光刻友好設(shè)計工具是 EDA 系統(tǒng)如何成為設(shè)計和制造之間橋梁的一個例子。

 

關(guān)于 Mentor Graphics

Mentor Graphics 集團(納斯達克代碼:MENT)是電子硬件和軟件設(shè)計解決方案的全球領(lǐng)導(dǎo)者,為世界上較成功的電子和半導(dǎo)體公司提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品、咨詢服務(wù)和支持,所提供的支持曾多次獲獎。公司成立于1981年,在過去的12個月中實現(xiàn)營業(yè)收入約10.15億美元。公司總部地址:8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777(美國俄勒岡州)。官方網(wǎng)站:http://www.mentor.com 。

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